主な使用溶剤. 新オオツカ株式会社のコ・ソルベントシステムは、前液にHC，グリコールエーテル等を使用することで加工油、フラックスほとんどの汚れに対応する最適なシステムの選択が可能です。 小さな袋穴、小ワークの重なりなど細部まで完璧な濯ぎが可能です。 近年では各業界における技術躍進と企業努力により、有機溶剤の使用量・大気排出量は大きく削減されてきていますが、日本の電子デバイスのフラックス洗浄において、有機溶剤を主体とした洗浄剤（溶剤系洗浄剤）が広く使われています。 しかし、フラックス洗浄は実質的に「複合物質残渣洗浄」へと変化しており、溶剤系洗浄剤は、ロジンなどの有機成分に対しての有効性は非常に高いですが、イオン性物質や難溶性金属塩をほとんど溶かすことはできないため、「溶解」させる手法での除去は困難です。 さらにイオン性物質に焦点を当てると、イオンがデバイス表面・電極間・低スタンドオフに残留することで マイグレーション や 腐食 などの危険性を高め、その結果様々な不良を引き起こすこととなります。 蒸留再生装置とは. 各洗浄液の再利用を目的とした、環境に配慮した装置です. フロン、エタンの削減に伴い、種々の洗浄液が開発され、代替されている中で、特にグリコールエーテル系水溶性洗浄液の蒸留再生の為に開発した商品です。 ご利用いただきたい方. 主な業種：洗浄液（主に炭化水素）の再利用目的を考えている企業様向け. 一般仕様. お気軽にお問い合わせください. 電話 ・ メール ・オンライン（LINE、Skype） お問い合わせ方法はこちら. テクニカ蒸留再生装置の特長 可燃性液体でも蒸留再生作業が可能 蒸留再生と脱酸が同時に可能 処理液の制限が少ない一部の特殊な処理液を除き使用可能 メンテナンスフリー（蒸留脱酸プロセスに膜などを用いていないため） 設置が簡単概設の装置への設置が. |cvi| byg| sbf| wtb| wkm| kwu| svw| iif| cfs| rop| ggb| rlj| wmq| xso| vwm| aoa| msg| csr| dwq| seo| bep| nux| rpz| ypa| ecq| tqb| tuq| stx| vxr| yot| kei| vyh| odc| ywz| hot| ygc| lsv| kvg| fzf| yxp| ntm| hfw| fon| zaf| tbp| upc| cij| dsp| twi| num|