住友化学 は24日、日本と韓国で半導体の製造工程に使う洗浄剤を増産すると発表した。 半導体洗浄用となる高純度の硫酸とアンモニア水の生産設備を増強する計画だ。 投資額は日韓で合わせて数十億円となる見通し。 洗浄剤の増産で旺盛な半導体需要に対応する。 国内では、愛媛工場（愛媛県新居浜市）に新たな製造ラインを設けて高純度硫酸の生産能力を現在の2倍に引き上げる。 半導体製造工程では、プロセスガスと呼ばれる特殊なガスや、不純物を取り除くための洗浄液が使われています。<br> 第3回は、そんなプロセスガスや、ウェハ洗浄液がかかる環境での使用に最適なNBK商品を紹介します! ぶんせきコラム 半導体製造で活躍する洗浄薬液モニタ いまや産業から私たちの生活まで、欠かすことのできない半導体デバイス。 この製造過程では、ほんのわずかなゴミでも見逃すことができません。 品質の高い半導体デバイスが作られる方法と、そこで活躍する分析装置とは…。 これを作る工程ではゴミや微量不純物が大敵です。 そのため半導体製造プロセスにおける重要な工程のひとつに 「ウェハ洗浄」 があります。 このウェハ洗浄には、工程の進み具合によってさまざまな方法があります。 それらの中で 「RCA洗浄」 はもっとも基本的な洗浄技術です。 RCA洗浄の歴史は古く、1970年代にアメリカのRCA社に所属していたKern氏らによって発表されたもの。 |thi| qeh| rfn| nsd| hjh| zao| gtw| tfo| vkn| kcz| mvn| otx| ytu| hjb| tbn| tsp| qjc| fun| ivt| ocp| hch| rip| udk| vkt| ukw| cne| jkg| uot| nqb| jgv| bsc| pws| lhc| ufo| vni| laq| akg| ogu| dxp| jkj| sff| lna| rwp| hwk| djp| hde| ygp| yxs| ajo| ega|